The Source / Drain Engineering of Nanoscale Germanium-based MOS Devices - Springer Theses - Zhiqiang Li - Bücher - Springer-Verlag Berlin and Heidelberg Gm - 9783662570265 - 7. Juni 2018
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The Source / Drain Engineering of Nanoscale Germanium-based MOS Devices - Springer Theses Softcover reprint of the original 1st ed. 2016 edition

Zhiqiang Li

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The Source / Drain Engineering of Nanoscale Germanium-based MOS Devices - Springer Theses Softcover reprint of the original 1st ed. 2016 edition

59 pages, 49 Illustrations, color; 3 Illustrations, black and white; XIV, 59 p. 52 illus., 49 illus.

Medien Bücher     Taschenbuch   (Buch mit Softcover und geklebtem Rücken)
Erscheinungsdatum 7. Juni 2018
ISBN13 9783662570265
Verlag Springer-Verlag Berlin and Heidelberg Gm
Seitenanzahl 59
Maße 124 g   (Geschätztes Gewicht)

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